LiAlO2 సబ్‌స్ట్రేట్

LiAlO2 సబ్‌స్ట్రేట్ అనేది లిథియం అల్యూమినియం ఆక్సైడ్ (LiAlO2)తో తయారు చేయబడిన ఉపరితలాన్ని సూచిస్తుంది.LiAlO2 అనేది అంతరిక్ష సమూహం R3mకి చెందిన ఒక స్ఫటికాకార సమ్మేళనం మరియు త్రిభుజాకార క్రిస్టల్ నిర్మాణాన్ని కలిగి ఉంటుంది.

LiAlO2 సబ్‌స్ట్రేట్‌లు సన్నని చలనచిత్ర పెరుగుదల, ఎపిటాక్సియల్ లేయర్‌లు మరియు ఎలక్ట్రానిక్, ఆప్టోఎలక్ట్రానిక్ మరియు ఫోటోనిక్ పరికరాల కోసం హెటెరోస్ట్రక్చర్‌లతో సహా పలు రకాల అప్లికేషన్‌లలో ఉపయోగించబడ్డాయి.దాని అద్భుతమైన భౌతిక మరియు రసాయన లక్షణాల కారణంగా, ఇది విస్తృత బ్యాండ్‌గ్యాప్ సెమీకండక్టర్ పరికరాల అభివృద్ధికి ప్రత్యేకంగా సరిపోతుంది.

హై ఎలక్ట్రాన్ మొబిలిటీ ట్రాన్సిస్టర్‌లు (HEMTలు) మరియు లైట్ ఎమిటింగ్ డయోడ్‌లు (LEDలు) వంటి గాలియం నైట్రైడ్ (GaN) ఆధారిత పరికరాల రంగంలో LiAlO2 సబ్‌స్ట్రేట్‌ల యొక్క ప్రధాన అప్లికేషన్‌లలో ఒకటి.LiAlO2 మరియు GaN మధ్య లాటిస్ అసమతుల్యత సాపేక్షంగా చిన్నది, ఇది GaN సన్నని ఫిల్మ్‌ల ఎపిటాక్సియల్ పెరుగుదలకు తగిన ఉపరితలంగా మారుతుంది.LiAlO2 సబ్‌స్ట్రేట్ GaN నిక్షేపణ కోసం అధిక-నాణ్యత టెంప్లేట్‌ను అందిస్తుంది, ఫలితంగా పరికర పనితీరు మరియు విశ్వసనీయత మెరుగుపడుతుంది.

LiAlO2 సబ్‌స్ట్రేట్‌లు మెమరీ పరికరాల కోసం ఫెర్రోఎలెక్ట్రిక్ పదార్థాల పెరుగుదల, పైజోఎలెక్ట్రిక్ పరికరాల అభివృద్ధి మరియు సాలిడ్-స్టేట్ బ్యాటరీల తయారీ వంటి ఇతర రంగాలలో కూడా ఉపయోగించబడతాయి.అధిక ఉష్ణ వాహకత, మంచి యాంత్రిక స్థిరత్వం మరియు తక్కువ విద్యుద్వాహక స్థిరాంకం వంటి వాటి ప్రత్యేక లక్షణాలు ఈ అనువర్తనాల్లో వారికి ప్రయోజనాలను అందిస్తాయి.

సారాంశంలో, LiAlO2 సబ్‌స్ట్రేట్ అనేది లిథియం అల్యూమినియం ఆక్సైడ్‌తో తయారు చేయబడిన ఉపరితలాన్ని సూచిస్తుంది.LiAlO2 సబ్‌స్ట్రేట్‌లు వివిధ అప్లికేషన్‌లలో ఉపయోగించబడతాయి, ప్రత్యేకించి GaN-ఆధారిత పరికరాల పెరుగుదలకు మరియు ఇతర ఎలక్ట్రానిక్, ఆప్టోఎలక్ట్రానిక్ మరియు ఫోటోనిక్ పరికరాల అభివృద్ధికి.అవి కావాల్సిన భౌతిక మరియు రసాయన లక్షణాలను కలిగి ఉంటాయి, ఇవి సన్నని ఫిల్మ్‌లు మరియు హెటెరోస్ట్రక్చర్‌ల నిక్షేపణకు అనుకూలంగా ఉంటాయి మరియు పరికర పనితీరును మెరుగుపరుస్తాయి.